IBM і Samsung оголосили про прорив у галузі напівпровідникових технологій
IBM і Samsung оголосили про прорив у галузі напівпровідникових технологій
Нова технологія кидає виклик традиційному дизайну
Компанії IBM та Samsung Electronics спільно оголосили про прорив у розробці напівпровідникових технологій, заснований на використанні нової вертикальної транзисторної архітектури, яка відкриває шлях до масштабування за межі нанорівня та має потенціал значного зниження енергоспоживання порівняно з транзисторами FinFET.
Про це повідомляє mind.ua.
Закон Мура, згідно з яким кількість транзисторів у мікросхемах приблизно подвоюється кожні два роки, швидко наближається до того, що вважається непереборною перешкодою.
Читайте також: TikTok змінить алгоритми рекомендації відео
Історично транзистори проектувалися так, щоб лежати на поверхні напівпровідникового кристала, при цьому електричний струм тече в горизонтальному напрямку. Нові транзистори, що отримали назву Vertical Transport Field Effect Transistors, або VTFET, формуються перпендикулярно поверхні кристала, і струм тече вгору або вниз.
Процес VTFET усуває багато перешкод на шляху подальшого підвищення продуктивності ступеня інтеграції. Він також стосується контактів транзисторів, дозволяючи отримати більший струм із меншими втратами енергії. У цілому нині нова конструкція націлена на дворазове поліпшення продуктивності чи скорочення енергоспоживання на 85% проти FinFET.
матеріал підготував/ла: Дмитро Кравченко

Слідкуйте за «Новини Полтавщини» в Google







